- 刻蚀机NLD-570
- 2021-10-16 14:46
- 产品简介：研究开发向NLD干法刻蚀设备NLD-570，是搭载了爱发科开创的磁性中性线（NLD- neutral loop discharge）等离子源的装置
- 蒸发台Ei 系列
- 2021-10-16 14:46
- 产品特性：•金属,合金,非金属,化合物等材料的高品质蒸发镀膜•镀膜精度高,可达10E-10m•蒸发镀膜的纯度高,附着力强•镀膜的均匀
- 溅射台 SME-200
- 2021-10-16 14:46
- 产品简介：它是一种多室型溅射装置，可以配备多个处理室（*多3个腔室200E，*多5个腔室200J和*多7个腔室200）产品特性：• 可运输
- 离子注入机
- 2021-10-16 14:46
- 离子注入装置SOPHI-400可以支持Max2400KeV的高能量离子注入装置。特长·单叶式·支持稀薄Wafer·平行光束用途·功率器件等薄型基
- 刻蚀机NE-550EX
- 2021-10-16 14:46
- 特长·通过磁场辅助，可以产生比其他ICP方式低压力、低电子温度、高密度等离子体，从离子性蚀刻到自由基性蚀刻，可以进行宽范围
- 蒸发台Esz系列
- 2021-10-16 14:46
- 产品特性：• 金属,合金,非金属,化合物等材料的高品质蒸发镀膜• 镀膜精度高,可达10E-10m• 蒸发镀膜的纯度高,附着力强• 镀膜的
- 溅射台CS-200
- 2021-10-16 14:46
- 产品特性：• 通过利用常规过程数据和专有技术重新设计了易用性• 通过在负载锁定室中安装暗盒机构（可选）来提高生产率• zui大
- PECVD设备
- 2021-10-16 14:46
- 产品简介：Load-lock式Plasma CVD设备CC-200/400是小型的使用便利的可对应从研究开发到量产的设备。产品特性：• 27.12MHz高密度
- 离子注入机 IH-860DSIC
- 2021-10-16 14:46
- 特长·可以自动连续高温处理注入·1价离子可注入350keV，2价离子可注入700keV（可选择1价离子可注入430keV，2价离子可支持860keV
