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离子注入装置SOPHI-400可以支持Max2400KeV的高能量离子注入装置。特长
·单叶式
·支持稀薄Wafer
·平行光束
用途
·功率器件等薄型基板工艺、IGBT工艺
离子注入机
2021-10-16 14:46 点击:74
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特长
·单叶式
·支持稀薄Wafer
·平行光束
用途
·功率器件等薄型基板工艺、IGBT工艺
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特长
·单叶式
·支持稀薄Wafer
·平行光束
用途
·功率器件等薄型基板工艺、IGBT工艺
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